tetraethoxysilane

tetraethoxysilane
tet·ra·eth·oxy·silane

English syllables. 2014.

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  • tetraethoxysilane — noun The compound (CHO)Si; it is used in silicon dioxide vapour deposition, and in the waterproofing of stone Syn: tetraethyl silicate …   Wiktionary

  • tetraethoxysilane — |te.trəˌe|thäksē+ noun Etymology: tetra + eth + oxy + silane : ethyl silicate …   Useful english dictionary

  • Procede sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… …   Wikipédia en Français

  • Procédé sol-gel — Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La fusion de ces… …   Wikipédia en Français

  • Procédés sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… …   Wikipédia en Français

  • Sol-gel — Procédé sol gel Les procédés sol gel permettent la production de matériaux vitreux sans recourir à la fusion. Depuis des temps immémoriaux, le verre est fabriqué à partir de silice et d’autres composés chimiques (soude, chaux, magnésie…). La… …   Wikipédia en Français

  • Silicone — Not to be confused with the metalloid chemical element Silicon. Silicone caulk can be used as a basic sealant against water and air penetration. Silicones are inert, synthetic compounds with a variety of forms and uses. Typically heat resistant… …   Wikipedia

  • Silicone resin — Silicone resins are a type of silicone material which is formed by branched, cage like oligosiloxanes with the general formula of RnSiXmOy, where R is a non reactive substituent, usually Me or Ph, and X is a functional group H, OH, Cl or OR.… …   Wikipedia

  • Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… …   Wikipedia

  • Tetraethyl orthosilicate — Chembox new ImageFileL1 = Tetraethyl orthosilicate.svg ImageSizeL1 = 150px ImageFileR1 = Tetraethyl orthosilicate 3D.png ImageSizeR1 = 150px IUPACName = tetraethoxysilane OtherNames = tetraethyl orthosilicate; ethyl silicate; silicic acid,… …   Wikipedia

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